真空鍍膜機的厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學（xué）薄膜的尺度（dù）上看（也是1/10波長（zhǎng）作（zuò）為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當（dāng）好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也是（shì）說對於薄（báo）膜（mó）的光學特性來說（shuō），真空鍍膜沒有任何障礙。
但是如果是指原子層尺度上的（de）均（jun1）勻度，也是說要實現10A甚至1A的表麵平（píng）整。真空鍍膜機在薄膜中，化（huà）合物的原子（zǐ）組分會由於尺度過小而很容（róng）易的產生不均勻（yún）特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那（nà）麽實際表麵的組分並不（bú）是SiTiO3，而（ér）可能是其他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成（chéng）分（fèn），這（zhè）也是真空鍍（dù）膜的技術含量所在。真空鍍膜機的晶（jīng）格有序度的均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍（dù）膜技術中的熱點問題，具（jù）體見下。
真空鍍膜機的操作程序（xù）
① 檢查真空鍍膜機各操作控製開關（guān）是否在（zài）"關"位置。
② 打（dǎ）開總電源開關，設備（bèi）送電。
③ 低壓（yā）閥拉出。開（kāi）充氣閥，聽不到氣（qì）流聲後，啟（qǐ）動升鍾罩閥，鍾罩升起。
④ 安裝固定鎢螺旋加熱子（zǐ）。把PVDF薄膜和鋁蓋（gài）板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鍾罩內各部（bù）位，保（bǎo）證無任何雜質汙物（wù）。
⑤ 落下（xià）鍾罩（zhào）。⑥ 啟動抽真空機械（xiè）泵。
⑦ 開（kāi）複合真空計（jì）電源a.左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段（duàn）的加熱位置。b.低真空表“2”內指（zhǐ）針順時針移動，當（dāng）指針移（yí）動（dòng）至（zhì）110mA時，左旋鈕"1"旋轉至指向2區段測量位置（zhì）。
⑧ 當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時，低（dī）壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。
⑨ 真空鍍膜機開通冷卻水，啟（qǐ）動擴散泵，加熱40min。
⑩ 低壓閥拉出。重複一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉至指向2區段（duàn）測量位置。低真空表“2”內（nèi）指針順時針移動（dòng），當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥（閥杆順時針旋轉）。
⑪ 等低真空表“2”內指（zhǐ）針右移動至0.1Pa時，開（kāi）規管燈絲開關。a. 發射、零點測（cè）量（liàng）鈕“9”旋（xuán）轉至（zhì）指向發射位置。b. 左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。